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ALICAT真空镀膜系统内净化气体和反应气体的输入需要快速的响应和精确的控制。艾里卡特质量流量控制器和压力控制器成功应用

艾里卡特Alicat提供先进的质量流量计MB-0.5SCCM、美国ALICAT艾里卡特MCW/MCPW/MCRW/MCHW/MCRWH低压损气体质量流量控制器 MCW-0.5SCCM-D MCW-1SCCM-D MCW-2SCCM-D MCW-5SCCM-D MCW-10SCCM-D MCW-20SCCM-D MCW-50SCCM-D MCW-100SCCM-D MCW-200SCCM-D MCW-500SCCM-D MCW-1SLPM-D MCW-2SLPM-D质量流量控制
ALICAT真空镀膜系统内净化气体和反应气体的输入需要快速的响应和精确的控制。艾里卡特质量流量控制器和压力控制器成功应用
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艾里卡特Alicat提供先进的质量流量计、质量流量控制器、压力控制器、压力传感器解决方案。适用于真空沉积的快速EtherCAT MFC
真空镀膜系统内净化气体和反应气体的输入需要快速的响应和精确的控制。艾里卡特质量流量控制器和压力控制器具有快速的控制响应速度和EtherCAT通讯模式。有了这种EtherCAT通讯模式,将不再需要EtherCAT转换器,仪表也能更轻松地整合到工业PLC网络中。
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老化质量流量控制器的插入式替代品
升级为艾里卡特质量流量控制器非常简单。我们的MCE系列产品满足SEMI对连接长度的规范要求,它可通过插入方式与众多其它生产商的旧版MFC兼容。艾里卡特MCV是旧版MFC的插入式替代品,配有集成式启动截止阀。
了解更多关于MCE和MCV系列流量控制器的信息
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适用于CVD和ALD过程的防腐流量控制器
化学蒸汽沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)过程所用腐蚀性气态和液态前驱体需要不会随时间推移而被腐蚀的质量流量仪表。艾里卡特S系列(MC、MCES、MCVS)质量流量控制器采用316L不锈钢材质的流量传感器和FFKM弹性体,能够忍受这些严酷的元素。
了解更多关于MCS系列质量流量控制器的信息
适用于反应溅射的快速氧气流量控制
通过快速控制反应气体流量,确保薄膜涂层的均匀性。艾里卡特产品控制响应时间仅50ms或更短,确保被引入您反应溅射过程的反应气体保持一致且可重复。我们将根据您的预期过程条件设置每一台流量控制器的PID调节功能,而且,如果您需要更改设置,您可在安装后随时更改这些设置。
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真空沉积系统上游压力控制
使用艾里卡特集成式真空控制器(IVC)代替下游节流阀和PID控制模块,降低真空沉积系统成本。这种压力控制器上游有控制阀门,且内置电容薄膜真空传感器,因而无需使用昂贵的外部真空计。
了解更多关于真空用PC系列压力控制器的信息

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